項目信息
- 項目級別
- 部委
- 組織部門
- 國家知識產(chǎn)權局
- 年份
- 2017
- 課題名稱
- 一種背散射成像用射線束的掃描裝置和方法
- 證書編號
- ZL201520269105.127
- 資助金額
- -
- 申報批次
- 第十九批
- 人員名稱
- 陳志強,李元景,趙自然,劉 以農,吳萬龍,張麗,涂超,唐樂,金穎康,曹碩,丁光偉
- 數(shù)據(jù)來源
- 關于第十九屆中國專利獎授獎的決定
項目名稱 | 證書編號 | 公示時間 | 課題名稱 | 補貼金額 | 備注 |
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已獲得國家知識產(chǎn)權局授權的專利,并同時具備以下條件的,可以參加中國專利獎評選:
(一)在規(guī)定的日期前被授予發(fā)明、實用新型或外觀設計專利權;
(二)專利權有效,在申報截止日前無法律糾紛,不存在未繳年費或滯納金等情況;
(三)全體專利權人均同意參評;
(四)未獲得過中國專利獎;
(五)一項專利作為一個項目參評;
(六)相同專利權人參評項目不超過2項;專利權人是國家知識產(chǎn)權示范高校的,參評項目不超過4項;集團公司及其子公司參評項目總數(shù)不超過10項。
(七)中國專利獎采用項目推薦方式。獲得第二十三屆中國專利獎最佳組織獎的單位可在分配名額的基礎上增加1至2個推薦名額;設省人民政府專利獎的省級知識產(chǎn)權局可在分配名額基礎上增加1至2個推薦名額。
(八)同專業(yè)領域的兩名院士可聯(lián)名推薦1項本專業(yè)領域的發(fā)明專利,每名院士僅限推薦一次。
(九)國家知識產(chǎn)權示范高校每年可自薦2個項目參評,國家知識產(chǎn)權示范企業(yè)每兩年可自薦1個項目參評。
企業(yè)名稱 | 證書編號 | 課題名稱 | 補貼金額 | 備注 |
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